欢迎光临!
值得信赖的传动元件解决方案专为需要可靠性能的场所设计
全国咨询热线:18913139319
当前位置:首页>>新闻资讯

HIWIN半导体次系统:EFEM整合纳米级定位与AI调校,助力PLP检测效率提升30%

时间:2026-07-29 07:10:26 点击:0

在半导体制造与先进封装领域,设备整合能力与核心传动部件的精度直接决定了良率天花板。HIWIN集团凭借从直线导轨、晶圆机器人EFEM(设备前端模组)、纳米级定位平台的垂直整合优势,为全球前三大半导体设备制造商提供关键解决方案。其最新一代晶圆移载系统通过机、电、软体的深度整合,在面板级封装(PLP)与精密检测场景中实现了显著突破。

HIWIN半导体次系统:EFEM整合纳米级定位与AI调校,助力PLP检测效率提升30% 

一、PLP新方案:由圆转方的检测效率跃升

面板级封装(PLP)由传统圆形晶圆向方形基板演进,对移载系统的定位精度与稳定性提出了全新挑战。HIWIN集团整合上银科技的PLP自动化次系统与大银微系统的纳米级定位平台,推出了针对310mm×310mm及以上尺寸基板的解决方案。该方案结合AI智慧调校技术,在光學检测设备中实现了重现精度小于±0.1μm,有效解决了大尺寸应用所衍生的累积误差问题,并使检测效率提升了30%以上。

 

PLP制程中,设备的UPH(每小时产出)与定位精度往往相互制约。HIWIN透过关键零组件整合优势,其搭载的新型多轴纳米级定位平台整合了驱控一体化控制系统,能够在维持±0.1μm重現精度的同时,实现高效对准与快速取像,为FOPLP(面板级扇出型封装)的量产提供了可靠的传动基础。

 

二、晶圆寻边器:4.9秒完成高精度对准

在光刻与量测环节,晶圆寻边定位的速度与精度决定了整体节拍。HIWIN HPA系列晶圆寻边器采用体积业界最小的All-in-One设计,支持212吋多种尺寸及透明、半透明晶圆的寻边校正。其核心性能指标为:中心重复精度±0.1mmNotch角度重复精度±0.2°,且最短于4.9秒内完成晶圆寻边、中心与角度补正动作。该产品通过ISO Class 3级洁净室认证,适用于标准、翘曲及边缘接触等多种制程工艺。

 

三、EFEM模组:弹性配置与快速交付

HIWIN晶圆移载系统(EFEM)是整合了晶圆机器人、Load Port、寻边器、晶圆ID读取、RFID感应与凸片检知等周边配件的完整自动化系统。透过垂直整合与自行研发的控制系统,HIWIN能依产品规格弹性配置对应款式的晶圆机器人。其苏州工厂可实现80,000㎡产能支持,Load Port等核心模组可在2周内交付。近期,HIWIN更将边缘AI解决方案导入Load Port产品,通过影像模组与感测元件整合,即时监测载具对接状态并回馈至控制系统,进一步提升了高节拍条件下的设备稳定性与异常应变能力。

 

如您正在规划半导体设备升级或PLP检测方案,需要获取EFEM配置建议或纳米定位平台参数,欢迎随时联系我们:

 

技术咨询专线:15250417671(可加微信发送详细产品手册与案例集)

 

官网查阅更多信息: https://www.sgbagua.cn/